自研光刻精准仿真建模平台：构筑先进制程图案化的数字基石

精准光刻仿真（rigorous litho simulation）是被应用于先进光刻工艺的重要仿真技术，在先进光刻工艺的优化和工艺热点的分析中不可或缺。这类工具被部署在各大半导体生产企业，被广泛应用。 精准光刻仿真软件目前主要的供应商是美国的Synopsys和KLA。作为中国企业，全芯智造结合目前中国客户的需要，开发了精准光刻仿真软件RigStar，并且在国内各个半导体生产企业开始部署和应用。报告将介绍精准光刻仿真的技术特点和业界现状，以及相关国产软件的突破，也会简单介绍全芯智造支持国内半导体产业的制造EDA全版图。

孟晓东，现任全芯智造技术股份有限公司副总裁，计算光刻专家，在计算光刻研发和应用方面具有超过20年的丰富经验。孟晓东先生于2001年加入中芯国际，历任光刻工艺工程师、工艺整合资深工程师等职位。孟晓东先生于2005年加入新思科技（上海），历任资深工程师、项目经理、资深经理、中国区OPC负责人等职位，管理亚太区客户的OPC、精准光刻仿真和掩模版数据准备等工作。孟晓东先生于2019年加入全芯智造技术股份有限公司并任产业推广副总裁，负责推动产学研深度融合，促进科技成果转化，搭建企业与高校、科研机构的合作平台。